真空镀膜技术中的热点问题-公司新闻-温州驰诚真空机械有限公司

北京11选5开奖结果

欢迎光临驰诚真空机械有限公司官方网站!

热门关键词:真空镀膜机 真空镀膜设备 真空镀膜机厂家

关于驰诚 / ABOUT US

真空镀膜技术中的热点问题

作者: 来源: 发布于:2019-10-7
蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等。

一、对于蒸发镀膜:
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

厚度均匀性主要取决于:
1。基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3。 蒸发功率,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小。

组分均匀性:
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性:
1。晶格匹配度
2。基片温度
3。蒸发速率

溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。


版权所有:温州驰诚真空机械有限公司 Copyright 2015 All Rights Reserved
24小时售后服务电话:400-882-5225  电 话:0577-56615101   浙ICP备09010036号-3
手机:13857753897  传真:0577-56615100  Email:001@ccvacuum.com  地 址: 浙江温州市龙湾区滨海工业园区滨海一路9号
pk10开奖时间 迅雷彩票注册 pk10杀号软件 北京pk10论坛 PK10注册 PK10注册 pk10论坛 五分pk拾 五分pk拾 PK10注册